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宏武纳米二氧化铈 50nm 99.9%纯度 CeO2纳米粉末 可用于抛光 催化

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参  考  价:面议
具体成交价以合同协议为准
  • 产品型号:
  • 品牌:
  • 产品类别:其他氧化物
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  • 更新时间:2023-05-02 13:12:31
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  • 经营模式:其他
  • 商铺产品:189条
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  • 最近登录:2023-05-02
  • 联系人:吴经理
产品简介

品名:纳米二氧化铈英文名:Ceriumoxidenanoparticle分子式:CeO2粒径:40-60nm纯度:99.9%形貌:近球形外观:淡黄色粉末其他形式:分散液可根据具体要求定制二氧化铈的应用(a)化学抛光粉上的应用纳米二氧化铈是目前玻璃抛光的磨料,广泛应用于玻璃、光学元件等精密加工,并得到广泛研究

详情介绍

品名:纳米二氧化铈
英文名:Cerium oxide nanoparticle
分子式:CeO2
粒径:40-60nm
纯度:%
形貌:近球形
外观:淡黄色粉末
其他形式:分散液可根据具体要求定制



二氧化铈的应用
(a)化学抛光粉上的应用
纳米二氧化铈是目前玻璃抛光的磨料,广泛应用于玻璃、光学元件等精密加工,并得到广泛研究。在抛光粉中影响抛光效果的是CeO2的粒度、纯度及硬度。其中粒度为主要因素,粒度大适合通常的光学元件、眼镜片等的抛光,粒度小适合精细光学镜头的高速抛光。

举例:玻璃作为最普通及基本的无机材料,广泛应用于笔一记本电脑硬盘玻璃基片、数码相机芯片、超精密光学镜头、光学窗口等光学元件,以及光通讯元件、平面显示器等*电子产品的制造中。超光滑亚纳米级粗糙度、平整、无微观缺陷的玻璃表面已成为关系这些高技术产品性能的重要因素。

化学机械抛光(CMP)是集成电路生产中硅片加工以及整个沉积和蚀刻工艺的重要组成部分,它借助CMP浆料中超微研磨粒子的机械研磨作用以及浆料的化学腐蚀作用,用专用抛光盘在己制作电路图形的硅片上形成高度平整的表面,是目前能够提供超大规模集成电路制造过程中全局平坦化的一种新技术。

(b)催化剂上的应用
纳米二氧化铈具有很好的氧化还原性能。它不仅具有的储氧、放氧功能,而且又是稀土氧化物系列中活性的一个氧化物催化剂,因此在许多场合下二氧化铈可作为助剂来提高催化性



宏武纳米企业文化和管理理念:

公司使命:做纳米新材料领域专业产品供应商和相关服务提供商。

公司价值观:一,用户至上,诚实守信,服务

公司管理理念:模块化管理,坚持以市场为导向,以技术为驱动,以满足客户合理诉求为己任。专注行业,深耕细作。


宏武在纳米材料生产方面有近二十年的经验,经过多年探索和尝试, 宏武在纳米材料生产技术和相关服务提供已经很成熟。宏武研发团队与自主研发合物理和化学相互结合的生产方法。 我们可以大量生产大部分纳米金属元素和氧化物粉末和分散液。 我们可以根据客户需要提供定制服务。



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