硅钼棒长期高温连续工作，表层膜逐渐蒸发，使硅钼棒体从内部至表面进行热力学物相平衡，当表面硅的浓度梯度不足以形成*低硅化物相时，发生游离钼的氧化挥发，并在新的硅化钼界面上形成石英玻璃保护膜，如此不断挥发、生膜，元件则不断的减细，直到局部小截面处超负荷烧断失效。这主要是连续窑炉硅钼棒的失效形式。

圆圈硅钼棒是在实际使用特定的规格，用于局部加热使用。表面温度可以达到1600度，圆圈收口出距离大概5毫米，基本已经做到小距离的范围。

硅钼棒表层的石英玻璃膜在加热和冷却的热应力过程中，由热胀冷缩而引起的开裂、崩落、减薄，在裂纹及崩落的新表面上重新形成保护膜，该处即出现低于元件表面的凹坑，经一定次数的交替，元件表面形成直径1～2mm，深度0.2～0.5mm 的连续麻面，后在小截面处超温烧断。这主要是间隙炉的失效形式。