广告招募

当前位置:全球供应网 > 技术中心 > 所有分类

诚峰crf等离子表面处理器和过渡金属氧化物催化活性

2023年09月12日 12:17:59      来源:深圳市诚峰智造有限公司 >> 进入该公司展台      阅读量:18

分享:

诚峰crf等离子表面处理器和过渡金属氧化物催化活性:
       
等离子表面处理器与镧系催化剂一同效用下C2烃、CO收率与镧系催化剂的原子序数存在一定关系,即随着元素原子序数的增加,C烃收率逐渐下降,CO收率逐渐上升。这说明在等离子体气氛下,镧系催化剂对体系中的各种自由基存在吸附选择性的差别和吸附能力的差别。La203/Y-Al2O3催化剂吸附甲基自由基并促使C2烃的产生;与La203/Y-Al2O3催化剂不一样,Nd2O3/Y-Al203催化剂则倾向于吸附含氧自由基,并且催化剂表面的甲基自由基易被含氧自由基氧化产生CO。
等离子表面处理器       值得注意的是,在CO2氧化CH4制C2烃反应中,CeO2/Y-Al203与等离子表面处理器一同效用呈现出不错的催化活性,这与CeO2/Y-Al203在催化法CH4氧化偶联反应中的效用明显不一样,一般认为CeO2/Y-Al203是CH4氧化产生CO的优良催化剂,不利于产生C2烃;同样,虽然Sm2O3/Y-Al2O3是优良的CH4氧化偶联反应催化剂,但在plasma等离子体气氛下其催化活性并不明显。这说明等离子体与催化剂一同作用机理与单纯催化作用机理并不相同,因此有待于深入研究等离子表面处理器与催化剂一同作用机理。
       在CO2氧化CH4转化反应中,负载型金属氧化物催化剂(碱土金属氧化物、过渡金属氧化物、镧系金属氧化物)与等离子表面处理器一同效用的研究表明:部分催化剂如La203/Y-Al203、Na2WO4/Y-Al203等通过表面反应提高C2烃产物选择性,进而提高了C2烃产物收率,但未能从根本上改变C2烃产物分布,乙炔在C2烃产物中占70%以上,同时反应的气相副产物是H2和CO。鉴于上述试验结果,有必要选择合适催化剂改变C2烃产物分布,提高C2H2在C2烃产物中的摩尔分数,增加反应原子的经济效益。      

版权与免责声明:
1.凡本网注明"来源:全球供应网"的所有作品,版权均属于兴旺宝装备总站,转载请必须注明兴旺宝装备总站。违反者本网将追究相关法律责任。
2.企业发布的公司新闻、技术文章、资料下载等内容,如涉及侵权、违规遭投诉的,一律由发布企业自行承担责任,本网有权删除内容并追溯责任。
3.本网转载并注明自其它来源的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品来源,并自负版权等法律责任。 4.如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起一周内与本网联系。