汶颢股份自主开发的喷淋显影机，是针对光刻工艺中的显影过程而设计开发的，可以对7英寸以下(含7英寸)规格的硅片进行程控式自动化显影。该设备可替代微流控芯片制作过程中的手动显影环节，克服了手动显影过程中的显影液加入量不可控、硅片显影时间不可控、同规格硅片间隔显影效果不可控，上减少操作人员人为因素导致的显影质量问题以及硅片的损坏。那么微流控芯片中为什么要用喷淋显影工艺呢？

图案形成与定义

去除光刻胶：在微流控芯片的制造过程中，光刻是关键步骤，光刻胶被涂覆在芯片基底上，经过曝光后，需要通过显影步骤去除特定区域的光刻胶。喷淋显影可以均匀地将显影液喷洒在芯片表面，使曝光后的光刻胶与显影液充分接触，从而溶解掉应该去除的光刻胶部分，精确地形成所需的微流道、微腔室等图案。

精确图案转移：喷淋显影有助于将光刻掩膜版上的图案准确无误地转移到芯片基底上。显影液的均匀喷淋能够保证整个芯片表面的显影效果一致，避免因显影不均匀导致的图案变形或尺寸偏差，从而保证微流控芯片的设计功能得以实现。

提高生产效率与质量

快速显影：喷淋显影方式能够快速地将显影液覆盖到芯片的整个表面，相比于其他显影方式，它可以加快显影过程，提高生产效率。

减少缺陷：均匀的喷淋可以避免显影液局部积聚或干涸，减少因显影液分布不均而产生的显影缺陷，如残留光刻胶、显影过度或不足等问题，从而提高微流控芯片的良品率和质量稳定性。

对后续工艺的影响

为蚀刻或沉积做准备：显影后形成的光刻胶图案为后续的蚀刻或沉积工艺提供了模板。喷淋显影确保的精确图案能够保证蚀刻或沉积过程按照设计要求进行，使微流控芯片能够实现预期的微结构和功能。

保证工艺兼容性：良好的喷淋显影效果有助于保证光刻胶图案的质量，进而保证后续工艺与光刻工艺的兼容性，避免因显影问题导致后续工艺无法正常进行或影响芯片的最终性能。

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