光刻胶主要通过旋涂的方式进行涂布的（又称为“甩胶”），对于薄胶，的旋涂转速为2000~4000rpm，对于相对胶厚的胶，旋涂转速为250~2000rpm，匀胶机的转速通常可以达到9000rpm，在某些情况下，还可以使用1000~200rpm较慢的转速来获得特定较厚的胶层。但是这种情况下，胶膜的质量会下降。并且可能会在晶圆的边缘形成大量的边缘胶珠，可以通过旋涂获得30~200um的胶厚（取决于光刻胶的类型），也可以使用自流平的方法获得高达1mm后的厚胶膜。

需要注意，频繁打开瓶盖会导致光刻胶中的溶剂挥发，从而导致胶变厚，一般来说，对于1.4um（@4000rpm）的胶，1%的溶剂挥发会导致胶厚增加4%，对应的曝光剂量也需要增加。

一般情况下，以1000rpm匀胶转速下获得的胶厚是4000rpm下胶厚的2倍，可以以此来估算特定光刻胶的膜厚值。对于AR-P 3510，在4000rpm转速下胶厚为2.0um，在1000rpm转速下的胶厚约为4.0um，如果可以接受薄膜成膜质量差，边缘胶珠的前提下，250rpm甚至可以获得8um的胶厚，但是我们不建议这么做。使用高转速可将胶厚控制在1.6um（在6000rpm下）。如下图所示：

在涂胶转速>1500rpm下，30s的涂胶时间足以获得所需的膜厚，但在较低的转速下，其涂胶时间应延长至60s，对于加盖共旋的匀胶机，虽然其涂胶质量较高，但是其厚度通常是开放式匀胶机厚度的70%。对于薄胶，一般的匀胶时间为60s足够了，过长的匀胶时间，反而会使成膜质量变差。

还有一些不常见涂胶工艺，如下：

浸涂：适用于大型或者不规则形状的衬底。

喷涂：与旋涂结合，以节约光刻胶，也适用于衬底表面有深沟槽结构或者衬底形状不规则的情况。

辊涂：大幅面衬底，如防伪、印刷行业。

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