在微流控芯片中如何实现可控PH梯度？

这里主要介绍以软光刻(soft-lithography)为主要手段的微加工技术制备PH值梯度微流芯片的方法. 此种PH梯度芯片具有容易加工、可根据需要快速得到不同范围的PH值梯度、精度可控制、IEF与分离结合为一体、IEF所需电压低、PH值梯度不随时间改变等优点. PH值梯度微流芯片的制作过程如下:

将图形用3600dpi的打印机打印输出到透明胶片上, 作为掩膜版使用.

使用AZ50T 光刻胶, 在Si片上以光刻的方法得到软光刻的模板. 实验中使用的模板的混合区宽度为40 μm, PH值梯度区的宽度为250和500 μm两种.

将5 mm厚的聚二甲基硅氧烷PDMS(polydimethylsiloxane, GE RTV615)倒在Si模板上, 待无气泡后放入80℃的烘箱, 烘烤25 min.

将固化的PDMS从Si模板上揭开, 在圆点处打孔以用于进样和分离出口.

将PDMS与蒸镀了电极的玻璃片用键合的方法粘合在一起. 实验中PH值的测量采用InoLab Level 3 PH计, 注射泵采用WH-SSP-08型.