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汶颢芯片硅片模具使用注意事项

2025年07月22日 08:11:10      来源:苏州汶颢微流控技术股份有限公司 >> 进入该公司展台      阅读量:9

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一、硅片模具出厂前已进行挥发处理。

二、硅片模具使用须在无尘环境下进行。

三、使用铲型镊子夹取为佳,避免模具边缘脏污,影响外观。

四、注意硅片任何操作下都需要要轻拿轻放,防止意外碎裂。

五、模具浇注PDMS前确认模具表面是否清洁,芯片结构是否完好。

六、模具不可使用有机溶剂清洗。

七、如硅片表面脏污,影响浇注;可用无尘布蘸取丙酮或乙醇小心进行擦拭,防止损坏;注意不可接触光刻胶图形。

八、PDMS混合时,需混合均匀且脱气之后再进行浇筑。

九、浇注PDMS时,尽量使硅片模具底面与浇注皿贴合较好,水平居中为佳。

十、PDMS浇注完,静置,待PDMS中气泡消失后再放入烘箱,保证水平;若静置后仍有气泡,可用针头小心挑去,避免划伤通道。

十一、PDMS成型后,取出,待冷却后再进行PDMS-模具分离,注意力度控制,小心剥离,剥离时,模具面保持清洁,不留指纹。

十二、模具使用完,将硅片模具放入硅片暂存盒内;保持清洁,不落灰尘。

 



标签:   硅片 模具 PDMS 光刻胶
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