2025年09月08日 10:48:46 来源：质朋仪器贸易（上海）有限公司 >> 进入该公司展台 阅读量：14
全光谱椭偏仪是一种用于生物学、材料科学领域的分析仪器。常用来探测薄膜厚度、光学常数、孔隙率以及材料微结构的特性。工作原理是基于椭圆偏振光在样品表面的反射，通过测量反射光的偏振态变化（幅度和相位），来计算或拟合出材料的相关属性。入射光束（通常为线偏振光）的电场可在两个垂直平面上分解为矢量元，反射光或透射光一般是椭圆偏振光。用复数ρ来表示偏振态的变化，其中ψ和∆分别描述反射光 p 波与 s 波振幅衰减比和相位差。通过菲涅耳反射系数 rp 和 rs 以及相关公式，可以计算出材料的折射率 n（真空中的光速与材料中光的传播速度的比值）和消光系数 k（表征材料对光的吸收）等光学常数。
全光谱椭偏仪的主要特点包括：
• 测量精度高：能测量很薄的膜（低至单原子层），精度比干涉法高1-2个数量级；
• 非接触、非破坏性测量：不必特别制备样品，也不损坏样品；
• 可同时测量多个参数：能同时测量膜的厚度、折射率以及吸收率；
• 适用材料广泛：可测的材料包括半导体、电介质、聚合物、有机物、金属、多层膜物质等；
• 光谱范围可选：从深紫外到红外，不同的光谱范围能提供关于材料的不同信息，可根据被测材料的属性、薄膜厚度及关心的光谱段等因素进行选择，以提升多层探测能力并测试物质对不同波长光波的折射率等。
在选择合适的全光谱椭偏仪时，除了光谱范围，测量速度通常也是一个重要的考虑因素。其测量速度一般由所选择的分光仪器来决定，例如使用单色仪每次只能测试一个波长，速度较慢，但波长比较准确；而利用探测器阵列同时测量整个光谱范围的方式，在需要快速测量时较为常用。
全光谱椭偏仪在众多领域都有应用，如半导体、微电子、通讯、数据存储、光学镀膜、平板显示器、科研、生物、医药等。它可用于研究半导体集成电路制造、光学镀膜和保护膜、聚合物特性等，也可应用于材料科学、物理、化学等基础研究，以及生物、医药等领域的相关研究。
不同型号的全光谱椭偏仪具有不同的技术指标，例如致东 Radiation椭偏仪的技术指标如下：
规格 | 技术指标 |
衬底类型 | 透明或半透明衬底 |
光源 | 氙灯 |
光源寿命 | >8760H |
光谱范围 | 300-1000nm |
入射角 | 70度（40度-90度 每5度可调） |
光斑直径 | 100x120μm(Min80x100um) |
测量时间（不对焦） | <2S(单层模型),<约6s（多层模型） |
膜厚测量范围（单层膜） | 1nm-15μm |
对焦 | 自动讯号对焦 |
膜厚测量精度 | <0.5nm(基于标片) |
折射率测量精度 | <0.005(基于标片) |
厚度重复性精度： | <0.5A（1 sigma 标准差,10times）（基于标准片） |
折射率重复性精度： | <0.0005（1 sigma标准差,10times）（基于标准片） |
可测试膜层数量 | ≥2层 |
标片数量 | 2片 |
致东 Radiation椭偏仪紧凑型膜厚量测设备
● 安装移动迅速便捷
● 适用于所有非金属膜质
● 多样化的应用选择
● 工业标准数据端口
关键词：光谱仪 | 椭偏仪 | 反射仪
