通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。

　　此方法由英国物理学家M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。

　　蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。

　　蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。

　　膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量)，并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。

　　从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。

　　蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。

　　以上是进口真空镀膜设备维修专家爱加真空为大家提供的蒸发式真空镀膜机的工作原理，希望能够对大家有所帮助。

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