塑料真空镀膜设备的发展相当快，随着生产率的提高，生产费用大大降低，已经为真空镀膜产品的普遍使用铺平了道路。

　　以卷绕式真空镀膜机为例，刚开发时可镀的薄膜基材宽度是150mm，目前已达2253mm。基材卷筒的卷径是1000mm，卷绕速度750m/min。

　　自动装卸的半连续卷绕式真空镀膜机镀膜时间占整个周期的75%，辅助操作时间只占25%。

　　效率更高的从大气到大气的卷绕式真空镀膜机已于1977年出售。

　　随着计测技术、控制技术的进步和电子计算机的应用，卷绕式真空镀膜机正向着高度自动化和高度可靠性的方向发展。

　　卷绕式真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2μm，可以在这个范围内选择，有的还可以镀多层膜，满足多种需要。日本提出沉积两种不同镀膜材料的卷绕式蒸镀装置。

　　该装置的真空室分为上室，左下室和右下室。蒸镀时，两组蒸发源蒸发的镀膜材料分别沉积在塑料薄膜上，在塑料薄膜没有蒸镀的一侧，装上辉光放电发生器。

　　发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱。使用这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜，用于制磁带和薄膜太阳能电池等。该装置示意图见图1

　　近年来，高速低温溅射法发展很快，使高熔点金属如铬、钛、钨、钼等的沉积成膜成为可能。

　　镀膜室直径1400mm，高2200mm的大型钟罩式溅射镀膜机和长13mm，宽7.6mm的大型串列式溅射镀膜机已投入使用。

　　最近，日本提出一种卷绕式溅射镀膜机，该机可镀两种不向的镀膜材料，并在溅射区和第二溅射区之间装温度控制装置，加强对基材的冷却，保证在镀膜层较厚和沉积速度较快的情况下，基材不会发生卷缩和变形。

　　真空室装有溅射靶和阳极，两个靶分别与直流电源(5a,5b)相接，对塑料薄膜(8)进行溅射。辊筒有各自的冷却温度。

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