1、靶材面积与承载功率范围

　　(1) 圆形平面磁控靶功率密度范围一般为1~25瓦/cm2。

　　(2)矩形平面磁控靶功率密度范围一般为1~36瓦/cm2。

　　(3)柱状磁控靶、锥形平面磁控靶(S枪)功率密度范围一般为40~50瓦/cm2。

　　2、磁控靶实际承载功率

　　磁控靶的实际的承载功率除了与溅射工艺、薄膜的质量要求等因数有关外，主要与靶的冷却状况和散热条件密切相关。

　　磁控靶按其冷却散热方式的不同，分为“靶材直接水冷却”和“靶材间接水冷却”两种。

　　考虑到溅射靶长期使用老化后，其散热条件变差;兼顾各种不同靶材材质的散热系数的不同，磁控靶的最终使用时的承载功率，直接水冷却靶实际的承载功率可按略小于功率密度范围的上限选取;间接水冷却靶的实际承载功率可按功率密度范围上限值的二分之一左右选取。

　　磁控靶材(主要是Cu，Ag，黄铜(Brass)和Al青铜(Al bronze) “自溅射”时，一般是选用经过专门设计“靶材直接水冷却”的磁控溅射靶。

　　其最终使用时的承载功率，均需大于靶功率密度范围的上限值(即>100W/cm2以上)。

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