1.清洗前，看片子是否短路，是否大小与样品托合适，蒸镀时放样品托的架子升，且旋转。

　　2.打开电流开关，及时打开ABC舟中一个，打开束源炉，及时打开其中一个启动A、B等。

　　3.掺杂材料用量覆盖舟底即可。

　　操作步骤：

　　1、打开总开关，包括冷却水开关和机器开关。

　　2、打开镀膜机总开关，样品旋转开关，升降开关按钮。

　　3、将玻璃基板至于样品托中，导电一面向下。

　　4、蒸镀室、预处理室放气。

　　5、打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀(顺时针方向关，逆时针方向开)，推拉杆推至大真空室中，将样品放到推拉杆上，将推拉杆拉回至预处理中。关闭闸板阀(顺时关闭，逆时针开)

　　6、打开快门控制电源，打开快门一，更换钨丝(每做一次实验更换一次)，将铝丝挂在钨丝上(5个，挂于弯折处)，检查蒸镀所需材料。

　　7、将掩膜版放置于掩膜版架上。

　　8、打开机械A、机械B泵。打开四个真空计，关闭放气阀。

　　9、基片预处理(打开角阀)：当处理室真空度达到4.0E1 (4.0×10)Pa

　　时关闭预角阀，打开大真空室角阀，再打开紫外轰击电源(直流溅射电源)，调节电流0.025-0.030A。轰击10-15分钟(等预处理室与蒸镀室气压平衡，打开闸板)。

　　10、插入样品托：再次打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀(顺时针方向开，逆时针方向关)，将样品传送至蒸镀室，用机械手抓取样品托，并保持在机械手上;然后将将推拉杆拉回至预处理中，关闭闸板阀;降低蒸镀台(注意样品托挡板位置)与机械手平齐，将样品托轻轻推入蒸镀台下方的样品托导引槽(上方导引槽)。

　　11、插入掩模板：将样品升降电源调到手动，将蒸镀台旋转180度(用皮带精确定位)，用升降盒使蒸镀台最下方的掩模板导引槽与掩膜版库轨道，至于同一水平线上，用机械手将掩膜版轻轻推至蒸镀台的掩

　　模板导引槽。

　　12、当大真空室的压强为1.2E1的时候，关闭角阀，打开闸板阀。

　　13、关闭机械泵A，升起样品台。

　　14、打开分子泵。抽到6.0-6.5E-4(大概需要两个小时)。

　　15、蒸镀过程：打开快门总开关，晶振开关(F1是清零，F5是开始或停止)。

　　16、打开PID(束源炉)开关，调节温度，依次蒸镀相关材料，制备OLED器件。

　　17、关闭分子泵阀门，放气(真空室顶部放气按钮)。打开真空室，取出样品。

　　18、关闭真空室，待分子泵数字为零时关闭分子泵后关闭机械泵B，打开机械泵A的阀门，打开机械泵A抽低真空。如果长时间不用时一定要关闭循环水冰柜电源，以防冻裂。

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