射频溅射就是利用射频放电等离子体里面的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在接地的基板表面的技术，和镀膜技术又不是一样的。

　　真空镀膜设备公司介绍，使用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统，因为常用的交流电源的频率在射频段。

　　如13.56MHz，所以称为射频溅射。

　　在直流溅射装置中，若采用绝缘材料靶的时候，轰击靶面得正离子会在靶面上累积，使其带正电，靶电位从而上升，使得电极间的电场逐渐变小，直至辉光放电熄灭和溅射停止，所以直流溅射装置不能用来溅射沉积绝缘介质薄膜。

　　为溅射沉积绝缘材料，人们可以将直流电源换成交流电源，因为交流电源的正负性发生周期交替，当溅射靶处于正半周时，电子流向靶面，中和其表面积累的正电荷，并且积累电子，使其表面呈现负偏压，导致在射频电压的负半周期时吸引正离子轰击靶材，从而实现溅射。

　　由于离子比电子质量大，迁移率小，不像电子那样很快地向靶表面集中，所以靶表面的点位上升缓慢，由于在靶上会形成负偏压，所以射频溅射装置也可以溅射导体靶。

　　在射频溅射装置中，等离子体里面的电子很容易在射频场中吸收能量并在电场内振荡，因此，电子与工作气体分子碰撞并使之电离产生离子的概率变大，故使得击穿电压、放电电压及工作气压显著降低。

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