氧化膜应力的测量是氧化膜应力研究的基础。已经发展了多种氧化膜应力原位测量技术。由于氧化膜较薄，氧化膜与基体金属构成一动态复合体系以及环境温度高等特点，氧化膜应力的测试技术与常规薄膜的不同。从四十年代开始对氧化膜应力进行定量测量，由于技术的限制，测试范围和精度一直达不到像薄膜残余应力测量的程度。但是，近年来随着新技术的应用和研究的深入，在氧化膜应力方面才取得了明显进展。尽管如此，对氧化膜应力的研究工作还远远不够，许多问题亟待进一步澄清。
总结了氧化膜应力产生和释放机制，氧化膜应力原位测量技术以及稀土对氧化膜应力影响等方面的研究进展，以探求氧化膜应力研究的发展方向
材料表面的几何形状:
通常认为di一种因素是重要的。对各向同性的氧化膜，对实用纯金属， PBR通常大于1，氧化膜内存在压应力。而氧化物在基体金属上取向生长造成晶格畸变。这部分应力只对特别薄的膜才明显。对于不同的金属体系或是在不同的氧化条件下，其它因素的作用也可能十分突出，甚至是主要的。例如，通常认为氧化铝膜发生横向生长，即新的氧化物主要在已形成膜内的晶界处生成。此时，氧化膜横向生长是应力产生的主要因素。另外，金属试样初始表面形状对氧化膜内应力的性质及大小也有着十分明显的影响。Hunt z认为，在许多情况下，氧化膜应力的性质与氧化膜的生长机制有更直接的关系。
对于氧化膜生长应力产生的理论分析也进行了部分工作，提出了不同模型来解释氧化膜内存在的压应力。例如，新的氧化物在晶界处生成模型，界面刃型位错排列模型，界面突出物模型以及界面位错攀移模型等。这些模型对理解应力产生机制是十分有益的。但在目前情况下，由于缺少必要的关于氧化膜性质的参量，还达不到定量计算的程度。
