棱镜耦合测试仪主要是用于电解质和聚合物膜的厚度、折射率和波导参数的快速测量。适用于薄膜厚度在2-100µm的聚合物材料、硅基氧化膜、硅基玻璃膜，在干涉条纹产生的基础上通过改变角度产生干涉条纹（VAMFO-变角度单色条纹观测）的方法。
对于厚膜折射率的测量，单色光被直接照射到被测样品上，这样，从薄膜表面反射回来的光的干涉小值就会发生变化，光的入射角也会发生变化。在这种技术中，薄膜厚度是由两个干涉小值的角的位置计算出来的。对于这种测量条件——薄膜具有两个或两个以上的干扰小值——薄膜厚度必须大于低脱粒率，通常为2微米。样品夹持机采用真空从背面支撑样品，安装方便简单。可测量薄膜/基底的类型，硅衬底上几乎任何透明或半透明材料的氧化物、氮化物、介质、聚合物或薄膜。可测量的薄膜/衬底类型：氧化物、氮化物、介电材料、聚合物、或硅衬底上几乎任何透明或半透明材料的薄膜。
一、棱镜耦合测试仪的特性：
1、薄膜及波导折射率/厚度测量，包括梯度折射率的测量；
2、体材料折射率的测量；
3、薄膜及体材料的双折射测量；
4、移动光纤测试波导损耗；
5、双层薄膜测量（甚至在波长1310nm或1550nm处有几个~㎛厚度）；
6、不相关的薄膜/基板组合；
7、无需预先知识，操作简单；
8、批量或基板材料的准确测量；
二、主要应用领域：
1、光波导器件；
2、激光晶体材料；
3、聚合物材料；
4、显示技术材料；
5、光/磁存储材料；
6、光学薄膜。
