PVD —— 物理气相沉积技术
PVD解释:我们的涂层原理是 物理气相沉积技术(即Physical Vapour Depostion,简称PVD)。
涂层工艺是 离子镀+溅射,故将称为“离子溅镀"。
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PVD——物理气相沉积技术2.1PVD解释:我们的涂层原理是物理气相沉积技术(即PhysicalVapourDepostion,简称PVD)
PVD —— 物理气相沉积技术
PVD解释:我们的涂层原理是 物理气相沉积技术(即Physical Vapour Depostion,简称PVD)。
涂层工艺是 离子镀+溅射,故将称为“离子溅镀"。
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