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KRI 射频离子源典型应用 LED-DBR 辅助镀膜
上海伯东美国 KRI 射频离子源成功应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场. 随着对镀膜品质要求的不断提升, 使用霍尔离子源辅助镀膜已经无法满足镀膜应用市场, 国内某 LED 制造商经过我司推荐采用射频离子源 RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中. 成功实现光学镜头镀膜并通过脱膜测试!

上海伯东射频离子源客户案例: 国内某 LED 制造商
1. 离子源应用: LED-DBR 镀膜生产
2. 系统功能: 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.
3. 离子源: 采用美国 KRI 射频离子源 RFICP 325. 离子源 RFICP 325 提供的离子束 (不论是离子能量还是离子密度) 均是目前业界较高等级, 离子源 RFICP 325 特殊的栅极设计 E22 Grided 可以涵盖 1650 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 substrate holder, 无论是生产良率或是均匀性都可达到生产效能.
4. 离子源功能: 通过射频离子源 RFICP 325 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的 LED-DBR 无论是亮度测试, 脱膜测试, 顶针测试, 光学特性等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.

上海伯东美国射频离子源 KRI RFICP 325 优点:
高离子浓度, 高离子能量, 离子束涵盖面积广
镀膜均匀性佳, 提高镀膜品质
模块化设计, 保养快速方便
增加薄膜附着性, 增加光学膜后折射率
全自动控制设计, 操作简易
低耗材成本, 安装简易

上海伯东是美国考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc 中国总代理. 美国考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式考夫曼离子源.
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