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电磁阀,液压单元，液压动力单元,淮安海天力液压有限公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需制作 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 20 在实际应用中，液压系统的污染、泄漏、冲击作用、振动以及噪声问题，这些是设计与使用一般动力单元时需要注意的几个关键问题对比
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MRV2-08手动卸荷阀带微动开关 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 20 升降平台动力单元安装关于高温型液压泵站的设计，其中往往要提前考虑到各个方面的相关因素对比
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CBK齿轮泵,CBK齿轮泵厂家,CBK齿轮泵公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 20 一、 电磁阀的多功能极其结构原理电磁阀是用来控制流体的方向的自动化基础元件，属于执行器;通常用于机械控制和工业阀门上面，对介质方向进行控制，从而达到对阀门开关的控制对比
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手动泵组,液压手动泵,动力单元,淮安海天力液压有限公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 21 升降平台动力单元安装关于高温型液压泵站的设计，其中往往要提前考虑到各个方面的相关因素对比
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手动泵,动力单元,手动泵厂家,淮安海天力液压有限公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 22 从组成结构开看，其实动力单元主要包含有三个部分，分别为动力系统、液压系统及电气系统对比
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CBK齿轮泵,CBK齿轮泵生产厂家,CBK齿轮泵公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 20 一、电磁阀的多功能极其结构原理电磁阀是用来控制流体的方向的自动化基础元件，属于执行器;通常用于机械控制和工业阀门上面，对介质方向进行控制，从而达到对阀门开关的控制对比
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液压阀组,整体式液压阀组,动力单元,淮安海天力液压有限公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 22 液压动力单元(HPU)用作供油装置，它通过外部的管路系统与数个液压油缸相连以控制多组阀门动作对比
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换向阀,动态平衡阀,换向阀厂家,淮安海天力液压有限公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 19 手动阀借助手轮、手柄、杠杆、链轮，由人力来操纵阀门动作对比
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静态平衡阀,动态平衡阀,平衡阀厂家,淮安海天力液压有限公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 19 一、 电磁阀的多功能极其结构原理 电磁阀是用来控制流体的方向的自动化基础元件，属于执行器;通常用于机械控制和工业阀门上面，对介质方向进行控制，从而达到对阀门开关的控制对比
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液压阀,动力单元,动力单元厂家,淮安海天力液压有限公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 23 在大家使用液压升降机的过程中，小型液压站难免会出现各种故障，现在，给大家主要讲解下液压升降机液压泵不启动是怎么回事？ 液压升降机液压泵坏了怎么办？ 1、先查看下液压升降机电源熔丝是否烧断，这个就是在液压升降机插上电源，却依旧不能运转的情况下面，如果断一相，则液压升降机电动机单相起动，起动转矩为零，电动机不能转动，应更换足够的熔丝对比
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机床液压站,液压站厂家,动力液压单元,淮安海天力液压有限公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 21 液压动力单元维护：1）液压动力单元系统应检查并更换一次油达500小时或3个月对比
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动力单元生产,动力单元,液压动力单元,淮安海天力液压有限公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 22 此液压动力单元专为电动篮球架设计，由高压齿轮、电机、多用集成块、插装阀、叠加阀、油箱等零部件有机结合为一体，构成两条独立的典型的液压上升重力下降回路，用于篮板和篮球架走轮的升降运动，压力补偿平衡阀的应用使得篮板和走轮的下降动作十分平稳对比
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动力单元,动力单元厂家,动力单元制作,淮安海天力液压有限公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 13 液压升降机泵在空载下工作或者在很小的负载下工作时，压力自然就上不去对比
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车用升降台动力单元TDDL-01,动力单元,动力单元公司,淮安海天力液压有限公司 参考价 ￥面议
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品牌 型号 按需定制 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-10-27 浏览次数 14 TDDL-01车用升降台动力单元产品描述：此液压动力单元专为残疾人车用升降台设计，由高压齿轮泵、直流电机、多用集成块、液压阀、油箱等零部件有机结合为一体，此动力单元设计有手动泵，卸荷用的电磁阀也带有手动放油装置以备急用，并有平衡阀来实现平台的平衡下降对比
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商超防伪标签模切切刀视觉定位引导辅助自动上料 参考价 ￥面议
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品牌 型号 00 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-08-29 浏览次数 28 用于切刀裁切设备的辅助上料，代替人工对比
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美国sinton少子寿命测试仪WCT-120，Suns-Voc 参考价 ￥面议
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品牌 型号 WCT-120，Suns-Voc 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 30 美国sinton少子寿命测试仪WCT-120，Suns-VocSintoninstruments少子寿命测试仪硅片少子寿命测试系统wct-120硅片少子寿命测试系统美国SintonWCT-120少子寿命测试仪器采用了的测量和分析技术，包括类似平稳状态photoconductance(QSSPC)测量方法对比
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nanoArch M160，nanoArch P140/S140 科研级3D打印系统 参考价 ￥面议
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品牌 型号 nanoArch M160，nanoArch P140/S140 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 27 nanoArchRM160系统简介nanoArchP140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμLSE：ProjectionMicroLithoStereoExposure）技术对比
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光刻机Prexision-800.Prexision-800.Prexision-8/10 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Prexision-800， Prexision-80， Prexision-8/10 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 29 Prexision-800，Prexision-80，Prexision-8/10为未来显示领域的标准而生现在我们每天都在使用的都是*的显示技术对比
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Nikon NSR 1755i7B 6英寸分步重复光刻机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Nikon NSR 1755i7B 6 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 31 NikonNSR1755i7B 6英寸分步重复光刻机技术指标及功能把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上，分区域进行步进式曝光对比
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ST-1500i投影光刻机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 ST-1500i 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 24 ST-1500i投影光刻机主要技术指标：曝光场面积：10mm×10mm分辨力：0.8-1μm（胶厚2μm的正胶）对比
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Trion Oracle III 离子刻蚀与沉积机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Trion Oracle III 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 28 美国TrionTechnology反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备对比
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SB-402曝光机（双面光刻机） 参考价 ￥面议
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品牌 型号 SB-402 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 26 SB-402曝光机（双面光刻机）产品描述SB-402双面曝光机（光刻机）主要用于半导体光电器件、功率器件、传感器、混合电路、微波器件及微电子机械系统（MEMS）等制作的双面对准和曝光对比
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JBX-9500FS 电子束光刻系统 参考价 ￥面议
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品牌 型号 JBX-9500FS 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 29 JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具高水平的产出量和定位精度，大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产对比
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Sentech SI 500 D 等离子沉积机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Sentech SI 500 D 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 25 SentechSI500D等离子沉积机：超高密度等离子体SI500d具有特殊的等离子体特性，如高密度、低离子能量和介质膜的低压沉积对比
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OAI 2012SM 自动化边缘曝光系统 参考价 ￥面议
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品牌 型号 OAI 2012SM 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 23 自动化边缘曝光系统模型2012SM2012SM型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济的方法对比
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英Oxford 等离子体增强化学气相沉积系统 参考价 ￥面议
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品牌 型号 System100 PECVD 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 20 等离子体增强化学气相沉积（Oxford Plasmalab System100 PECVD）原理：·在保持一定压力的原料气体中，借助射频功率产生气体放电，使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体对比
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VPG 1600 型大尺寸掩膜版光刻机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 23 详细介绍终级型大尺寸掩膜版生产工具：VPG1600新型VolumeHighGenerator(VPG)大尺寸图形发生器，是海德堡科技在大型光学系统上科技的创新与突破的里程碑对比
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英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats 500 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Auto500 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 25 英国HHV科研用真空镀膜系统Auto500,Ats500适合研究开发需求的多功能系统平台Auto500是一套多功能的真空镀膜系统平台，主要用于科学研究、技术开发或试生产对比
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URE-2000/600 紫外单面光刻机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 URE-2000/600 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 22 URE-2000/600紫外单面光刻机1、设备主要技术指标：(1)光束口径：650mm×650mm(2)有效曝光面积：600mm×600mm(3)分辨力：≤3m(4)对准精度：1.5m(5)对准显微镜中心距：75mm-600mm可调(6)掩模尺寸：650mm×650mm(7)样片尺寸：可适应Ф300mm、Ф450mm、Ф600mm300mm×300mm对比
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美国Trion Orion III PECVD 薄膜沉积系统 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Trion Orion III PECVD 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 21 美国TrionTechnology反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备对比
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德国Sentech ICP-RIE SI 500 等离子刻蚀机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Sentech ICP-RIE SI 500 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 23 SentechICP-RIESI500:超高密度等离子体纳米结构损伤小由于离子能量分布较低，可以实现低损伤蚀刻和纳米结构对比
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电弧等离子体沉积系统APD 参考价 ￥面议
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品牌 型号 APD 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 22 电弧等离子体沉积系统日本AdvanceRiko公司致力于电弧等离子体沉积系统（APD）利用脉冲电弧放电将电导材料离子化，产生高能离子并沉积在基底上，制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒对比
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JBX-6300FS 电子束光刻系统 参考价 ￥面议
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品牌 型号 JBX-6300FS 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 18 JBX-6300FS电子束光刻系统：JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形对比
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URE-2000/35型紫外光刻机-单面 参考价 ￥面议
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品牌 型号 URE-2000/35 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 22 URE-2000/35型紫外光刻机-单面主要技术指标：曝光面积：100mm×100mm分辨力：1um（胶厚1.5μm的正胶）对准精度：±0.8μm大胶厚：300μm（SU8胶）掩模尺寸:2.5inch、3inch、4inch、5inch样片尺寸：直径Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm)对比
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德Zeiss SEM 电子束直写仪 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Zeiss Sigma SEM 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 23 型号：ZeissSigmaSEM主要功能：·利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具对比
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OAI 800FSA 光刻机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 OAI 800FSA 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 17 800FSA型光刻机系统OAI800FSA型光刻机是一种半自动化的光学式顶面掩模对准器对比
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FPS 6100多功能掩膜版光刻机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 FPS 6100 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 22 使多功能光掩模制造具有的灵活性FPS6100传递的画面质量和生产效率有所提高，符合当下更为*的多功能市场细分的要求对比
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Aspen™ II 干法去胶机,刻蚀系统 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Aspen ⅡAsher 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 21 Aspen™II产品于1990年引入，基于高可靠性和高生产率的产品，它提供了经过验证的过程能力和所有权成本收益为大批量生产的芯片制造商设计对比
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美Arradiance 台式三维原子沉积系统ALD 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 16 原子层沉积（Atomiclayerdeposition,ALD）是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器，化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法，是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法对比
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德Eulitha光子成像系统PhableR 100 System 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 26 德国EulithaPhableR100高分辨紫外光刻系统科研/生产兼用简介：PhableR100紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构对比
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Certas Leaga 化学气体刻蚀系统 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Certas Leaga 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 18 详细介绍CertasLEAGA是一种率的系统，除了CertasWING的基本性能之外，还可以满足单个平台上的多个流程需求对比
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海德堡掩膜版光刻机VPG+ 200/400 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 21 的VPG（VolumePatternGenerator）系列-安装已超过50台对比
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法Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机MEB550SL3 参考价 ￥面议
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品牌 型号 MEB550SL3 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 19
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OAI 5000E 光刻机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 OAI 5000E 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 19 型号5000E大面积光刻机用于基板和显示器OAI5000E型大面积掩光刻机是一种*的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具，可为大型平板应用提供超精密，，亚微米对准和分辨率对比
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Millios 毫秒级快速热退火设备 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Millios 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 21 毫秒级快速热退火设备Millios®毫微秒退火系统是Mattson技术为*的晶体管形成、介质钝化、金属硅等材料表面退火提供的解决方案，退火时间极短，控制对比
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URE-2000A 型紫外单面光刻机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 URE-2000A 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 19 URE-2000A型紫外单面光刻机1．技术参数曝光面积：150mmX150mm曝光波长：365nm分辨力：0对比
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DS-2000/14K型无掩膜光刻机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 DS-2000/14K 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 21 产品名称：DS-2000/14K型无掩膜光刻机主要技术指标：单次曝光面积：1.4mm×1mm大曝光基片：100mm×100mm对准精度：±0.8μm（半自动对准）大胶厚：300μm（SU8胶）自动逐场对焦对比
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Sirus T2 台面式反应离子刻蚀机(RIE) 参考价 ￥面议
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品牌 型号 Sirus T2 类型 其他电力半导体器件 厂商性质 其他 更新时间 2023-07-22 浏览次数 22 美国TrionTechnology反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备对比
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