ASML和NIKON光刻机的翻新改造、安装调试及维护的核 心技术能力。中国WEI一完成过ArF, KrF, I Line, G Line全 部工程案例的团队。
针对12英寸及以下的不同尺寸（包括硅、碳化硅、氮化镓、 蓝宝石等）、不同掩模版尺寸的要求，可实现自主设计、 加工制造、集成调整的改造能力。
能够进行包括光学系统在内的QUAN面翻新、调试、测试， 具备完整的运行保障能力，和备品备件的供应。
针对不同产品（如MEMS、MICROLED、DMOS、CMOS 等），具备Z深的工艺人才和技术基础，能够针对不同的 产品特性进行设备选型、技术匹配及工艺试验。
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