SRS-400型磁控溅射PVD系统，配备三组磁控溅射靶群及控制系统，适用于沉积各种单/多层膜系.可实现单靶直溅和多靶共射功能。制备氮化物和氧化物反应膜溅射功能，可沉积金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜层，非常适合科研实验或新材料研发使用，适用于快速多层金属或合成膜沉积工艺。主要特点：多膜系沉积功能，可溅射绝大多数膜层DC/RF溅射电源可以使多种膜系随意切换大抽速真空系统即插即用多靶共镀功能满足多层多膜系混镀要求全自动压力控制，更利于沉积的均匀性预设参数全自动成膜过程无需人为干预应用领域：金属和介质膜薄膜传感器的制造光学元件纳米与微电子太阳能电池主要配置：圆筒型真空室尺寸Ф400mm x320mm500L/s涡轮分子泵+双级旋片泵组合全量程B-A复合真空规三组2英寸磁控溅射靶公自转阳级基片挂架，更利于大片沉积的均匀性保证。2DC+1RF溅射电源VAT全自动压控闸阀石英晶体监测系统用于实时厚度测量（1 nm精度）精密气体质量流量计（MFC）基板600°C短波红外可调加热器全自动腔体上盖开启装置自动PLC控制系统
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