SRS-500型磁控溅射PVD系统，最多可配备五个独立溅射靶位，采用涡轮分子泵组和自动压控系统等配置，适用于沉积各种金属和反应膜层。可实现单靶直溅和多靶共溅功能。适合快速制备多层金属、反应化合膜、半导体介质复合膜等，配备精密沉积速率控制系统，非常适合新材料研发和小批量生产使用。主要特点：大抽速真空系统，即插即用快捷方便；最多五个独立磁控靶位可轻松切换功能，快速制作多种金属和反应介质膜；预设参数全自动沉积无需人为干预；材料和基板安装方便实用，单片公转可沉积φ280的膜片，可实现公自转载具切换功能。配备射频源，可实现多种膜层工艺要求。应用领域：金属和介电膜薄膜传感器的制造光学元件纳米与微电子太阳能电池主要功能配置说明：Φ500mm*420mm(h)圆形不锈钢腔室（可选玻璃腔室）700L/s涡轮分子泵+双级旋片泵真空泵组。全量程复合真空计，自动控制不同工艺压力。电动压控插板阀全程压力自动控制。四个独立2英寸溅射靶+2个热蒸发源，或5个独立溅射靶位，可同时溅射多种靶材。配准备DC电源和RF电源更利于溅射多种金属和介质膜层。MFC精密气体控
所有评论仅代表网友意见，与本站立场无关。