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KLD-310MH 300/310ml 硅胶点胶机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 点胶设备 厂商性质 其他 更新时间 2026-07-16 浏览次数 硅胶打胶装置，解决硅胶桶余压漏胶，收胶困难等问题对比
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KLD-R300H 桌面式自动打油脂机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 点胶设备 厂商性质 其他 更新时间 2026-07-16 浏览次数 适用于润滑油、润滑脂、黄油、防锈油 等粘度高油脂对比
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KLD-DZJX 桌面式点胶机定制机型 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 点胶设备 厂商性质 其他 更新时间 2026-07-16 浏览次数 支持尺寸定制 加高 加宽用于产品工艺中的粘接、灌注、涂层、密封、填充、点滴、线形/弧形/圆形涂胶等对比
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KLD-661Z三轴柜式硅胶点胶机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 点胶设备 厂商性质 其他 更新时间 2026-07-16 浏览次数 产品工艺中的粘接、灌注、涂层、密封、填充、点滴、线形/弧形/圆形涂胶等对比
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KLD-661A三轴硅胶点胶机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 点胶设备 厂商性质 其他 更新时间 2026-07-16 浏览次数 产品工艺中的粘接、灌注、涂层、密封、填充、点滴、线形/弧形/圆形涂胶等对比
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KLD-RD300S 桌面型蠕动式点胶机 瞬干胶 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 点胶设备 厂商性质 其他 更新时间 2026-07-16 浏览次数 用于瞬干胶 导电漆 等低粘度流体的点涂，灌注 无需气动控制，通过蠕动泵控制胶水对比
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KLD-441A三轴UV点胶机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 点胶设备 厂商性质 其他 更新时间 2026-07-16 浏览次数 产品工艺中的粘接、灌注、涂层、密封、填充、点滴、线形/弧形/圆形涂胶等对比
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KLD-551A三轴针筒点胶机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 点胶设备 厂商性质 其他 更新时间 2026-07-16 浏览次数 产品工艺中的粘接、灌注、涂层、密封、填充、点滴、线形/弧形/圆形涂胶等对比
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KLD-661A三轴油墨点胶机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 点胶设备 厂商性质 其他 更新时间 2026-07-16 浏览次数 产品工艺中的粘接、灌注、涂层、密封、填充、点滴、线形/弧形/圆形涂胶等对比
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KLD-221A三轴厌氧胶点胶机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 点胶设备 厂商性质 其他 更新时间 2026-07-16 浏览次数 产品工艺中的粘接、灌注、涂层、密封、填充、点滴、线形/弧形/圆形涂胶等对比
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高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机 参考价 ￥9999999
标签：高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机,离子辅助镀膜,反应溅射镀膜,PVD设备,磁控溅射镀膜
品牌 型号 PVD-1000B系列 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-07-06 浏览次数 1 生产型 高真空磁控溅射及离子辅助复合镀膜机（PVD-1000B系列）该设备采用磁控溅射、离子辅助、反应溅射的工艺方法，在工件表面制备各种薄膜材料。该设备是集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。对比
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高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机 参考价 ￥999999
标签：高真空磁控溅射,离子辅助,多弧复合镀膜机,PVD设备,磁控溅射
品牌 型号 PVD-1000S系列 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-07-06 浏览次数 生产型 高真空磁控溅射/离子辅助/多弧复合镀膜机（PVD-1000S系列）该设备广泛应用于铣刀、钻头、轴承、齿轮、镜片等表面的硬质耐磨涂层制备，集成了工件表面处理、离子清洗、颗粒物控制、磁控溅射、离子辅助镀膜及反应溅射镀膜等工艺方法于一体的PVD设备。对比
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生产型 TGV/TSV /TMV 高真空磁控溅射镀膜机 参考价 ￥9999999
标签：隧道式磁控溅射,生产型磁控溅射,深径比10:1,高密度通孔镀膜,玻璃基板
品牌 型号 Sputter-2000W系列 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-07-06 浏览次数 生产型TGV/TSV/TMV 高真空磁控溅射镀膜机（Sputter-2000W系列）该设备用于玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的金属种子层镀膜，深径比10:1。例如：用于基板镀膜工序Cu/Ti微结构，Au/TiW传输导线双体系膜层淀积能力，为微系统集成密度提升提供支撑。对比
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MBE分子束外延设备 参考价 ￥999999
标签：MBE 分子束外延设备,功能性薄膜真空沉积装置,分子束外延技术,分子束外延MBE,薄膜制备设备
品牌 型号 鹏城微纳 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-07-06 浏览次数 1 分子束外延薄膜设备（MBE）（分子束外延MBE）该设备可以在某些衬底上实现外延生长工艺，实现分子自组装、超晶格、量子阱、一维纳米线等。可以进行第二代半导体和第三代半导体的工艺验证和外延片的生长制造。对比
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高真空电阻热蒸发镀膜机 参考价 ￥999999
标签：热蒸发镀膜机,电阻热蒸发镀膜,高真空镀膜,PVD镀膜,物理气相沉积设备
品牌 型号 鹏城微纳 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-07-06 浏览次数 高真空电阻热蒸发镀膜机（PVD镀膜设备）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。对比
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高真空电子束蒸发镀膜机 参考价 ￥999999
标签：电子束蒸发镀膜,高真空镀膜机,物理气相沉积,薄膜沉积,PVD镀膜
品牌 型号 鹏城微纳 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-07-06 浏览次数 1 高真空电子束蒸发镀膜机（PVD镀膜设备）是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。对比
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科研型 高真空磁控溅射镀膜机 参考价 ￥999999
标签：高真空磁控溅射,磁控溅射镀膜,高真空镀膜机,科研型镀膜设备,PVD镀膜
品牌 型号 Circular Sputter系列 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-07-06 浏览次数 科研型 高真空磁控溅射镀膜机 Circular Sputter系列是我司科研类及中试类高真空磁控溅射仪，其主要是用圆形磁控溅射靶进行溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。
可用于TGV/TSV/TMV xian*jin*封装的研发，高深径比（≥10:1）的深孔金属种子层镀膜。对比
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超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备 参考价 ￥999999
标签：高能脉冲磁控溅射,磁控溅射镀膜,HiPIMS,超高真空高能脉冲,PSD设备
品牌 型号 HITSemi-UHV-HiPIMS 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 1 超高真空高能脉冲磁控溅射镀膜设备，是在超洁净环境下，采用纳米及原子级制造技术，生长高纯度高质量薄膜。应用场景之一：GaN单晶薄膜生长工艺、GaN基稀磁半导体分子结构材料制备的工艺实现。对比
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高真空磁控溅射镀膜设备（圆形平面靶） 参考价 ￥999999
标签：磁控溅射镀膜,高真空磁控溅射,镀膜设备,PVD镀膜,PVD设备
品牌 型号 HITSemi-PVD-460SC 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 高真空磁控溅射镀膜设备（圆形平面靶）主要是用圆形磁控溅射靶进行溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。
也可用于TGV/TSV/TMV xian*jin*封装的研发，高深径比（≥10:1）的深孔金属种子层镀膜。对比
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高真空磁控溅射镀膜设备（矩形靶） 参考价 ￥99999
标签：磁控溅射镀膜,高真空磁控溅射,镀膜设备,PVD镀膜,PVD设备
品牌 型号 HITSemi-PVD-650SR 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 1 高真空磁控溅射镀膜设备（矩形靶）主要是用矩形磁控溅射靶进行溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。
也可用于TGV/TSV/TMVxian*jin*封装的研发，高深径比（≥10:1）的深孔金属种子层镀膜。对比
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高真空电子束蒸发镀膜设备 参考价 ￥999999
标签：电子束蒸发镀膜设备,高真空镀膜设备,PVD镀膜,PVD设备,物理气相沉积
品牌 型号 HITSemi-PVD-600EB 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 1 高真空电子束蒸发镀膜设备是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。对比
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高真空电阻热蒸发镀膜一体设备 参考价 ￥999999
标签：高真空电阻热蒸发镀膜,热蒸发镀膜,镀膜一体设备,高真空镀膜设备,PVD设备
品牌 型号 HITSemi-PVD-420TE 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 1 高真空电阻热蒸发镀膜一体设备采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。
可用于材料的物理和化学研究。可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。对比
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小型单管LPCVD 低压化学气相沉积设备 参考价 ￥999999
标签：小型单管LPCVD,LPCVD,CVD设备,低压化学气相沉积设备,化学气相沉积设备
品牌 型号 HITSemi-LPCVD-150 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 小型单管LPCVD 低压化学气相沉积设备在低压高温的条件下，通过化学反应气相沉积的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科学研究、实践教学、小型器件制造。对比
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小型PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备 参考价 ￥999999
标签：小型PECVD,PECVD,CVD,等离子体增强化学气相沉积设备,CVD镀膜
品牌 型号 HITSemi-PECVD-460 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 小型PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅、氧化硅和多晶硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅和多晶硅等薄膜的理想工艺设备。对比
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小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备 参考价 ￥999999
标签：小型HFCVD,HFCVD,CVD镀膜,热丝化学气相沉积设备,CVD设备
品牌 型号 HITSemi-HFCVD-X 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备，主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的科学研究。
可用于力学级、热学级、光学级、声学级的金刚石产品的科学研究。
可以研发金刚石多晶晶圆片，用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。
可用于研发防腐耐磨硬质涂层；环保领域污水处理用的金刚石产品。
可用于平面工件的金刚石薄膜制备，也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。
可用于太阳能薄膜电池的研发对比
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电感、电容复合三维等离子体清洗机 参考价 ￥999999
标签：等离子体清洗机,电感、电容复合等离子体清洗机,电感、电容复合三维等离子体清洗机,等离子体清洗机厂家,等离子体清洗机价格
品牌 型号 HITSemi-Plasma-C 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 电感、电容复合三维等离子体清洗机通过高频等离子电源将气体在真空下电离生成高活性等离子体。在低温环境下（接近室温），等离子体释放蓝紫色辉光（O2显蓝色、Ar呈深紫），其高能粒子与材料表面发生物理轰击及化学反应，精准实现表面清洁、活化、蚀刻等改性效果，赋予材料亲水性、疏水性或低摩擦特性。智能控制系统与气路系统确保工艺稳定，适用于复杂三维结构的高效处理。对比
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小型等离子清洗机（电容式） 参考价 ￥999999
标签：小型等离子清洗机,等离子清洗机,电容式等离子清洗机,等离子清洗机厂家,等离子清洗机价格
品牌 型号 HITSemi-Plasma-C1 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 小型等离子清洗机（电容式）离子定向性强，能量高，对于去除顽固的污染物（如油脂、指纹）和进行表面蚀刻、粗化效果非常好。适用于平面基片的清洗。对比
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小型等离子清洗机（电感式） 参考价 ￥9999999
标签：等离子清洗机,小型等离子清洗机,电感式等离子清洗机,等离子清洗机厂家,等离子清洗机价格
品牌 型号 HITSemi-Plasma-C2 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 高密度的活性自由基使小型等离子清洗机（电感式）在化学清洗方面效率ji*gao*。可清洗三维立体工件和异形工件。非常适合处理对离子轰击敏感的材料和器件，如半导体芯片、微电子机械系统（MEMS）、高级封装等。对比
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水平真空管式炉 HITSemi-VTF-260 参考价 ￥999999
标签：水平真空管式炉,真空管式炉,管式炉,真空管式炉厂家,真空管式炉价格
品牌 型号 鹏城微纳 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 水平真空管式炉 HITSemi-VTF-260配置一套独立工艺炉管，工艺气体分别配置N2/Ar，通过真空泵获得低压来实现工件的热工艺。
设备主要应用于科研院校、高校、工矿企业等实验和小批量生产。对比
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高真空超洁净气氛炉 HITSemi-VAF-1500 参考价 ￥99999
标签：高真空超洁净气氛炉,超洁净气氛炉,高真空气氛炉,气氛炉,高真空气氛炉厂家
品牌 型号 鹏城微纳 类型 半导体设备 厂商性质 生产厂家 更新时间 2026-06-29 浏览次数 高真空超洁净气氛炉 HITSemi-VAF-1500集真空抽气系统、真空炉膛、温度控制系统、气路系统、压力保护系统为一体。炉衬使用多层钨钼金属反射屏制作而成。
采用钨片为加热元件；是专为高等院校、科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化合物材料进行烧结、融化、分析、生产而研制的专用设备。对比
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1米5三维自动喷胶机 参考价 ￥面议
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品牌 型号 类型 点胶设备 厂商性质 其他 更新时间 2026-05-22 浏览次数 2 一、技术工作特点：1、具有画点、线、弧、圆，不规则曲线连续补间输入程序等功能及可三维点胶；2、点,线,面,圆弧等不规则曲线连续点胶功能对比
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