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等离子清洗机蚀刻的应用及新型磁性存储器的介绍：磁性存储器(MagneticRandomAccessMemory，MRAM)是一种以磁隧道结(MagneticTunnelJunction，MTJ)为核心...

等离子清洗机表面处理机超低温等离子体蚀刻技术简介：等离子清洗机表面处理机低温等离子体蚀刻被定义为发生在-100℃左右及其以下温度的，以液氮或者液氦为冷却源，以六氟化硫气体及氧气(SF6/O2)等气体等...

等离子清洗机低温等离子体蚀刻介绍：在过去的几十年中，以超大规模集成电路(ULSI)为代表的半导体技术一直以约每两年个技术节点的脚步追随着摩尔定律迅猛发展。1958年杰克・基尔比发明的集成电路板上只有5...

大气常压等离子清洗机在尼龙染色中的应用：使用大气常压等离子清洗机尼龙纤维进行处理，处理前后用分散染料和荧光染料染色。表明等离子体处理能增加纤维表面粗糙度，增加纤维染色深度，改善尼龙纤维的染色性能，而且...

等离子清洗机等离子表面处理机相变存储器的下电极接触孔蚀刻工艺：相变存储器的存储单元中“加热器”(即下电极接触)的尺寸对器件的性能至关重要，更小的尺寸意味着下电极接触中更高的电流密度、更高的加热效率且相...

等离子火焰机*侧墙蚀刻技术：传统的氮化硅侧墙等离子火焰机等离子体蚀刻，通过使用高氢的碳氟气体提高选择性,通过增加离子的轰击来达到各向异性的目的。当侧墙膜层和氧化硅停止层较厚时,影响并不明显。但在一些S...

等离子设备应力临近技术在半导体技术中的应用蚀刻：应力临近技术(StressProximityTechnology，SPT)是近年来在*逻辑芯片工艺上广泛应用的技术。其技术原理指的是在栅极和源漏区金属化...

大气等离子清洗机通孔蚀刻工艺参数对关键尺寸、轮廓图形及电性能的影响：典型的铜通孔大气等离子清洗机蚀刻工艺的薄膜材料组成，自下而上依次为蚀刻停止层、层间介电层、硬掩膜层、抗反射涂层和光刻胶组成。铜通孔蚀...

陶瓷等离子清洗机：采用Ag72Cu28焊料钎焊成的的多层陶瓷外壳由多层金属化陶瓷、底座和金属部件组成，在进入电镀环节之前，外壳表面必然会产生各种各样的污垢，包括灰尘、固体颗粒、有机物等，同时由于自然氧...

等离子清洗机设备蚀刻后硅锗沟槽界面对西格玛型沟槽形状及硅锗外延生长的影响：，等离子清洗机设备硅的干法蚀刻过程中会产生大量的高分子副产物。图形密集区反应总量大，因此副产物容易聚集。在图形硅片实验中，图形...

宽幅等离子表面处理机等离子清洗集成电路制造：随着制造集成电路体积的缩小，与此相伴的是：引线键合焊盘尺寸的减小，导致焊盘污染的隐患增大。引线键合焊盘受到污染时，会导致焊盘抗拉强度下降，连接强度均匀度下降...

低温等离子处理对聚合物的表面改性：低温等离子体表面处理系统技术提供了一种对环境友好且成本低的材料进行微观改性的方法，且改性过程不需要机械加工和化学试剂。利用低温等离子体表面技术，不仅能对材料进行清洁、...

等离子清洗机等离子清洗对盲孔起作用吗：由于HDI板孔径较小，传统的化学清洗工艺无法满足对盲孔结构的清洗要求，液体表面张力使得药液难以渗入孔洞中，尤其当激光钻入微盲孔时，其可靠性较差。当前用于微埋盲孔清...

线路板等离子清洗机：印刷线路板，尤其是高密度互连板的制作，需要进行孔型金属化处理，使层间的电气导通通过金属化的孔来实现。激光器孔或机械孔由于钻孔时存在局部高温，导致钻进后常有残余胶状物附着在孔洞内。为...

等离子表面处理机多晶硅栅极的双图形蚀刻：在多晶硅图形定义中，除了线条本身的特征尺寸外，线条末端（LineEnd）的图形也需要严格控制。与线条不同，由于黄光工艺的限制，线条末端的光阻侧壁倾斜突出，而且在...

等离子清洗机等离子体脉冲蚀刻技术工艺：从传统意义上来说，等离子清洗机等离子体蚀刻过程需要达到高产量、高均匀性、高选择比、各向异性和无损伤等目标。蚀刻工艺产量是衡量产能的标准，指单位时间所完成蚀刻的晶圆...

等离子表面处理机气体团簇离子束蚀刻技术：等离子表面处理机气体团簇离子束(Gasclusterionbeam)蚀刻具有一系列传统等离子体蚀刻所不具备的特性。在传统等离子体中，电子与离子的能量分布范围很广...

非标工业自动化清洗设备清洗特点：可将表面清洗定义为一种清洗过程，它可以除去吸附在表面上多余的物质，这些物质会对产品的工艺和性能产生不利影响。清洗是*制造领域中的工艺环节。工件表面多余材料的清除，应在工...

等离子清洗机耳机听筒清洗：耳机听筒内的线圈通过信号电流不断地驱动振膜振动，线圈、振膜、振膜与耳机壳之间的粘合效果直接影响听筒的声音效果和使用寿命，如果相互脱开就会产生破音，严重影响耳机的音效和寿命。振...

等离子设备厂家添加气体对等离子体中甲烷转化反应的影响：等离子设备厂家为减少积碳并进一步提高甲烷转化率和C2烃选择性，研究了多种添加气体对反应的影响。陈栋梁等采用微波等离子体技术研究N2促进甲烷偶联反应...